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台积电积极布局7nm制程 中微半导体入围设备商

2017-07-19
来源:中国半导体行业协会   2017-07-19
 
      全球半导体产业的年度重头戏将是7纳米制程布局,目前台积电动作最积极,近期在7纳米制程设备采购策略上,台积电出现重大转变,5大设备商包括应用材料(AppliedMaterials)、科林研发(LAM)、东京威力科创(TEL)、日立先端(Hitach)、中微半导体纳入采购名单,涵盖美、日及大陆设备商,台积电致力平衡7纳米制程设备商生态价格的用意不言可喻。
  
  全球半导体产业在进入7纳米制程世代之后,可望是台积电、三星电子(SamsungElectronics)、GlobalFoundries对决局面,业界预期台积电这一盘棋将大赢,就像当年成功押宝28纳米制程在智能手机应用商机,这次台积电在7纳米制程抛出高速运算(HPC)的议题,更量身打造高速运算专用的7纳米平台,企图在7纳米制程世代大获全胜。
  
  半导体业界一直讨论摩尔定律的发展瓶颈,面临投资回报率递减的困境,因此,台积电在7纳米制程再往前冲刺、延续摩尔定律的同时,亦回头采取更严格的成本控制策略,第一刀就是调整半导体机台设备的采购方针。
  
  半导体业者透露,台积电在7纳米一代为平衡设备商生态价格,单是蚀刻制程的设备商名单就找了5家厂商入列,其中,采购最大宗是来自于TEL和LAM,其次是应材、中微、日立先端,涵盖美、日及陆商,以获取最有利的价格,对于能够挤进台积电7纳米制程供应链,亦是设备商营运的重要指标。
  
  值得注意的是,中微是唯一打入台积电7纳米制程蚀刻设备的大陆本土设备商,中微原本是在开曼群岛挂牌的新加坡设备商,2016年有两家大陆半导体设备商获得国家集成电路产业基金(大基金)投资,一家是中微获得20%投资,另一家是上海微电子设备(SMEE),以符合大陆半导体设备国产化的政策目标。
  
  事实上,中微与台积电合作的渊源很早,在先进制程方面,包括28、10纳米制程等已经开始合作,并一直延续到7纳米制程世代上。至于另一家上海微电子设备为深耕大陆,2017年与荷兰微影设备大厂ASML签订合约,借由ASML技术指导来强化上海微电子设备的光刻技术,共同布局大陆半导体市场。
  
  在半导体7纳米制程进展上,台积电已揭露第一代7纳米(N7)将在2018年量产,紧接着在2019年登场的第二代7纳米(N7Plus),将导入ASML的极紫外光(EUV)技术,而三星则决定在第一代7纳米就直接让EUV技术上线。
  
  业界解读,台积电在EUV技术成熟之前就先用了深紫外光(DUV)技术,对自家的7纳米技术非常有信心,第一代不需要用到EUV也可以做到好,反观三星7纳米制程技术没这么强,所以需要更好的设备来补强。
  
  GlobalFoundries则承袭IBM技术自行研发7纳米,同样预计2018年量产,但对于EUV技术的看法并没这么乐观,预计到2019年7纳米制程才会让EUV技术上线,GlobalFoundries认为在此之前都还不成熟,业界预期GlobalFoundries的7纳米客户将是绘图处理器芯片大厂超微(AMD)。